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QuaNix4500/4200涂層測(cè)厚儀使用說(shuō)明書(shū)

發(fā)布時(shí)間：2012/9/3 點(diǎn)擊次數(shù)：4505

QuaNix4500/4200涂層測(cè)厚儀使用說(shuō)明書(shū)

一、簡(jiǎn)介

QuaNix4200/4500涂層測(cè)厚儀是利用霍爾原理而設(shè)計(jì)的探頭與主機(jī)一體化式金屬涂層測(cè)厚儀。QuaNix4200用于測(cè)量鐵磁性基體（如鋼、鐵）上的涂層，如油漆、各種防腐層、粉噴涂等。QuaNix4500帶Fe/NFe兩用探頭，既可用于測(cè)量磁性基體，又可測(cè)量非磁性基體如銅、鋁、合金等上的涂層。

二、測(cè)量
將儀器探頭垂直接觸被測(cè)物的表面，儀器將自動(dòng)開(kāi)機(jī)并測(cè)得數(shù)據(jù)。注意：測(cè)量時(shí)務(wù)必要使探頭垂直接觸被測(cè)物表面。

三、調(diào)零
儀器在測(cè)量前，為減少測(cè)量誤差，應(yīng)在基體上取零位作基準(zhǔn)?？梢杂脹](méi)有涂層的工件表面也可以用隨儀器帶基體。用儀器測(cè)量基體，如顯示0，表明已是零位，不用再調(diào)零。如不顯示0，則需要調(diào)零。將儀器探頭壓在調(diào)零板或未噴涂的工件表面上，不要抬起，按一下儀器上的紅鍵松開(kāi) ，液晶顯示一組數(shù)后，拿開(kāi)儀器，液晶顯示0，調(diào)零完畢。注意：由于工件表面粗糙度的原因，調(diào)零后，再測(cè)時(shí)不一定是的零位，這是正?，F(xiàn)象。

四、Fe/NFe探頭轉(zhuǎn)換
QuaNix4500為兩用探頭，當(dāng)測(cè)量不同的基體時(shí)，需要對(duì)磁性模式（Fe）與非磁性模式（NFe）進(jìn)行轉(zhuǎn)換。在開(kāi)機(jī)狀態(tài)下，按紅鍵進(jìn)入菜單選項(xiàng)，繼續(xù)按紅鍵選擇Fe或者Nfe選項(xiàng)短暫停留后，就已選擇相應(yīng)的測(cè)量模式，也可以選擇FeNfe選項(xiàng)，短暫停留后就進(jìn)入自動(dòng)識(shí)別基體模式（推薦使用）！

五、顯示

Fe：測(cè)量鐵磁性基體模式

NFe：測(cè)量非磁性基體模式

Err：操作失誤

INFI：探頭模式與被測(cè)基體不符

BAT：電量不足，需換電池

六、維護(hù)和維修

QuaNix4200/4500涂層測(cè)厚儀測(cè)厚儀采用的電子技術(shù),能滿(mǎn)足各種不同的測(cè)量要求。高精度的設(shè)備,堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)和便于使用等特點(diǎn)使得該儀器具有廣泛的應(yīng)用。只要正確使用和維護(hù),它的壽命會(huì)很長(zhǎng)。儀器需要保持清潔,不要摔落, 避免與潮氣,具有化學(xué)腐蝕性的物質(zhì)或氣體接觸。使用完畢,儀器應(yīng)被放回具有保護(hù)性和便于挪動(dòng)的盒子中。溫度的劇烈變化將影響測(cè)量結(jié)果,所以不要直接把儀器暴露在強(qiáng)烈的陽(yáng)光下或能引起溫度聚變的能量中。儀器對(duì)大多數(shù)溶劑具有抵抗性,但不能保證極少數(shù)化學(xué)物質(zhì)的腐蝕,這時(shí)處理的方法僅僅是用一塊潮濕,柔軟的布擦洗儀器。只有探針保持清潔,才能獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù),所以要定期檢查探針,清理探針上殘留的污物諸如漆等。儀器長(zhǎng)期不被使用時(shí),為避免因漏電而損壞,要取出電池。出現(xiàn)故障時(shí),請(qǐng)不要自行修理,我們的維修部門(mén)隨時(shí)竭誠(chéng)為您服務(wù)。

七、技術(shù)參數(shù)

磁性基體 Fe探頭（4200/4500）

非磁性機(jī)體 NFe探頭（4500）

測(cè)量范圍 Fe:0-3000um/NFe:0-3000um

精度 0-50um:≤+/-1um

50-1000um:≤+/-1.5%讀數(shù)

1000-3000um≤+/-3%

zui小接觸面 10×10mm

zui小曲率半徑凸面：3mm

凹面：25mm

zui小機(jī)體厚度 Fe:0.2mm/NFe:0.05um

溫度補(bǔ)償范圍 0-60℃

顯示 LCD液晶

探頭紅寶石固定式

電源 2×1.5V干電池

尺寸 100×60×27mm

重量 110g

八、注意事項(xiàng)
1.測(cè)量應(yīng)為點(diǎn)接觸，嚴(yán)禁將探頭置于被測(cè)物表面滑動(dòng)。

每次測(cè)量間隔時(shí)間應(yīng)大于幾秒鐘，且儀器應(yīng)離開(kāi)被測(cè)物10cm以上，再進(jìn)行下一次測(cè)量。

2 進(jìn)入菜單時(shí)，選擇Unit短暫停留后可進(jìn)入單位選擇選項(xiàng)。默認(rèn)的測(cè)量單位為公制um（1mil=25.4um）

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